Anseros Ozonsystem zur Wasseraufbereitung in der Halbleiterverarbeitung frei von jeglichen Metallpartikeln.
//PRODUKTDETAILS
In der Halbleiterverarbeitung ist ein vollständig reines Ozonsystem unabdingbar.
Jegliche Metalle und Teilchen, die während des Prozesses (Wafer/IMEC/RCA/SOM, etc.)
aus dem Ozonsystems auf die Halbleiteroberächen emittiert würden, würden die
Qualität des Mikrochips beeinträchtigen. Einschließlich ihrer Komponenten – wie
beispielsweise des Ozongenerators COM-AD oder des Ozonmonitors WM -, sind die
Anseros Wassersysteme PAP-SC vollständig frei von Metallen in Kontakt mit Ozon. Sie
sind geeignet für saubere Nass- und Trockenverarbeitung, gleichgültig, ob mit oder ohne
Säuren. Zur Gewährleistung der Sicherheit umfasst das PAP-SC System einen
Ozonzerstörer CAT-HO.
// APPLIKATION
+ IMEC- und RCA-Reinigungsverfahren
+ UPW-Systeme
+ Advanced Oxidation Processes AOP
+ Drei-Phasen-Systeme
+ Biologischer Abbau DOC
+ Sterilisation
+ CIP-Reinigung
// TECHNISCHE DATEN
DI-Wasserdurchuss: 100 … 2000 l/h
DO3: 1 … 100 ppmw
Material in Kontakt mit Ozon: PFA, Quarz
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