SPUTTERTARGETS / AUFDAMPFMATERIAL

Für die Herstellung von Dünnschicht-Metallisierungen im physikalischen Sputter-Verfahren liefern wir schmelzmetallurgisch hergestellte Targets aus Edelmetallen. Diese können als reine Elemente oder nach Kundenwunsch legiert werden. Typische Anwendungsbereiche sind optische Datenspeicherung, elektronische Bauelemente, Glasbeschichtungen, Photovoltaik, Folienbeschichtung und Spiegelherstellung. Unsere Targets können entweder massiv (Klemm-Targets) oder auf individuelle Backing Plates gebondet geliefert werden. Zusätzlich bieten wir das benötigte Verdampfergut in Form von hochreinen Granulaten, Drahtabschnitten oder Slugs für die Herstellung von Dünnschicht-Metallisierungen durch thermisches Verdampfen im Vakuum an.