Aluminium Targets mit sehr hoher Reinheit
Aluminium wird für die PVD-Metallisierung in Dünnfilmtransistoren für TFT-LCDs für Displays verwendet. Aluminium-Sputter-Targets sind hochrein und gewährleisten daher beste Leitfähigkeit des Materials. Die Mikrostruktur unserer Aluminiumtargets ist besonders feinkörnig. Damit garantieren wir Ihnen einen gleichmäßigen Abtrag und eine geringe Neigung zur Partikelbildung während des Sputterprozesses.
Material Eigenschaften:
Dichte [g/cm3]: > 2,70
Reinheit [%]: > 99,999 (5N)
Härte [HV1]: 16
Thermische Leitfähigkeit [W/(m·K)]: 238
Artikelnummer: Aluminum sputtering target
Bestellmengen und Lieferkonditionen: 1